特許
J-GLOBAL ID:201503014945132811

空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中島 淳 ,  加藤 和詳
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-170722
公開番号(公開出願番号):特開2013-047797
特許番号:特許第5820347号
出願日: 2012年08月01日
公開日(公表日): 2013年03月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 予め決められたスキャンライン画像データに応答して、一連の一次元光ピクセルで構成される一次元スキャンライン画像を発生するための方法であって、 1つ以上の光源から第1の束密度の有する1つ以上の光ビームを発生させることにより、均質光を発生させることを含み、前記発生した1つ以上の光ビームの全てがホモジナイザに案内されると共に、前記ホモジナイザから出た前記均質光が均一の二次元均質光場を形成し且つ第2の束密度を有し、前記第1の束密度は前記第2の束密度より大きく、 前記予め決められたスキャンライン画像データに従って前記均質光を変調することを含み、前記変調された均質光が二次元変調光場を形成し、 前記均質光が前記変調されてなる変調光をアナモルフィックに画像化しかつ集中させることを含み、前記集中された変調光が一次元スキャンライン画像を形成し、前記一連の一次元光ピクセルの各々は、スキャンラインに垂直に位置合わせされた複数の光変調素子から受け取られた前記二次元変調光場の同時に組み合わされた部分を備え、 前記変調光をアナモルフィックに集中させることは、 第1の集束レンズ及び第2の集束レンズを用いて、処理方向に交差する方向に、前記変調光の部分を投影しかつ拡大することを含み、前記変調光の部分が、前記第1の集束レンズと前記第2の集束レンズとの間で処理方向に平行のままであり、 前記第1の集束レンズ及び前記第2の集束レンズより下流に位置する第3の集束レンズを用いて、前記処理方向に平行な方向に前記変調光の部分を集中させることを含む、 方法。
IPC (3件):
G02B 26/10 ( 200 6.01) ,  G02B 26/08 ( 200 6.01) ,  B41F 7/02 ( 200 6.01)
FI (5件):
G02B 26/10 Z ,  G02B 26/10 104 Z ,  G02B 26/08 C ,  G02B 26/08 E ,  B41F 7/02
引用特許:
出願人引用 (7件)
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