特許
J-GLOBAL ID：201503014999785233

ジェミニ添加剤を含む抗パターン崩壊処理用組成物

発明者：
クリップ,アンドレアス

クリップ,アンドレアス について

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ホンチウク,アンドライ

ホンチウク,アンドライ について

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エター,ギュンター

エター,ギュンター について

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ビットナー,クリスティアン

ビットナー,クリスティアン について


出願人/特許権者：
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア

ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア について


代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-521102
公開番号（公開出願番号）：特表2015-529840
出願日： 2013年07月01日
公開日（公表日）： 2015年10月08日
要約：
半導体基板又はフォトリソグラフィ・マスクを処理するための組成物における、一般式I:【化1】[式中、 Xは、各々の繰り返し単位1〜nごとに独立して、 (a)任意に置換されていてもよく、且つ任意にO及びNから選択される5個以下のヘテロ原子で中断されていてもよい直鎖又は分岐のC1〜C20アルカンジイル、 (b)任意に置換されていてもよく、且つ任意にO及びNから選択される5個以下のヘテロ原子で中断されていてもよいC6〜C20シクロアルカンジイル、 (c)式:-X1-A-X2-;(式中、X1及びX2は、独立してC1〜C7の直鎖又は分岐のアルカンジイルから選択され、Aは、H原子が任意に置換されていてもよく、且つC原子が任意にO及びNから選択される5個以下のヘテロ原子で中断されていてもよい、C5〜C12芳香族部分、又はC5〜C30シクロアルカンジイルから選択される。)のC6〜C20有機基、 (d)式II: 【化2】(式中、pは0又は1であり、rは1〜100の整数であり、且つR5は、H、及び直鎖又は分岐のC1〜C20アルキル基から選択される。)のポリオキシアルキレンジラジカル、から選択される二価の基であり、 R1及びR2は、独立してH、直鎖状若しくは分岐したC1〜C20アルキル、C5〜C20シクロアルキル、C5〜C20アリール、C6〜C20のアルキルアリール、C6〜C20アリールアルキル、C1〜C20ヒドロキシアルキル、又はC2〜C4オキシアルキレンのホモポリマー若しくはコポリマーから選択される一価の基であり、これらの全ては、任意にさらに置換されていてもよく、 R3及びR4は、独立して直鎖又は分岐のC5〜C30アルキル基、C5〜C30シクロアルキル、C1〜C20ヒドロキシアルキル、及びC2〜C4オキシアルキレンのホモポリマー又はコポリマーから選択される一価の基であり、これらの全ては、任意に置換されていてもよく、対のR3-R4及び隣接したR4-R4及びR3-R3が、任意に共に二価の基Xを形成してもよく、及び分岐による分子の連続Qであってもよく、nが2以上の場合は、R3、R4、又はR3及びR4はまた、水素原子であってもよく、 nは、1〜5の整数であるか、又はX、R3及びR4の少なくとも1種が、C2〜C4ポリオキシアルキレン基を含む場合、nは、1〜10000の整数であってもよく、ただし、少なくとも1種のQが存在する場合、nは、分岐Qの全ての繰り返し単位を含み、 Qは、【化3】であり、 zは、界面活性剤全体で電気的に非荷電となるように選択される整数であり、 Zは、対イオンである。]で表されるジェミニ添加剤の使用方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
半導体基板を処理するための組成物における、一般式I:
IPC (4件)：
G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/76 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
G03F7/32 501 ,  H01L21/30 569E ,  G03F1/76 ,  H01L21/304 647B ,  G03F7/32
Fターム (27件)：
2H195BB15 ,  2H195BB19 ,  2H195BB23 ,  2H196GA10 ,  5F146BA11 ,  5F146LA12 ,  5F146LA14 ,  5F157AA91 ,  5F157AC01 ,  5F157AC02 ,  5F157BC02 ,  5F157BC07 ,  5F157BD02 ,  5F157BE12 ,  5F157BF44 ,  5F157BF47 ,  5F157BF52 ,  5F157BF54 ,  5F157BF58 ,  5F157BF59 ,  5F157BF63 ,  5F157BF72 ,  5F157BF73 ,  5F157BF96 ,  5F157DA21 ,  5F157DB03 ,  5F157DB23
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • リンス剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094270   出願人：花王株式会社
  • 平版印刷版の作製方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-082224   出願人：富士フイルム株式会社
  • 混合界面活性剤システム
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-521757   出願人：エルジーハウスホールドアンドヘルスケアエルティーディー.
審査官引用 (3件)
  • リンス剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094270   出願人：花王株式会社
  • 平版印刷版の作製方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-082224   出願人：富士フイルム株式会社
  • 混合界面活性剤システム
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-521757   出願人：エルジーハウスホールドアンドヘルスケアエルティーディー.

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