特許

J-GLOBAL ID：201503015648613637

成膜装置ならびに排気装置および排気方法

発明者： 仙波 昌平 ,  里吉 務
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-083674
公開番号（公開出願番号）：特開2015-203145
出願日： 2014年04月15日
公開日（公表日）： 2015年11月16日
要約：

【課題】成膜装置が大型化しても、排気構造の大型化、高コスト化、および複雑化を防止しつつ、排気経路への反応生成物の堆積を抑制する。【解決手段】排気ユニット3は、処理容器11内を排気する前段真空ポンプ32と、前段真空ポンプ32の排気側に分岐して設けられ、処理容器11に供給される第1の処理ガスおよび第2の処理ガスにそれぞれ対応した排気経路を規定する第1の分岐配管33および第2の分岐配管34と、第1の分岐配管33および第2の分岐配管34のそれぞれに設けられた第1の後段真空ポンプ35および第2の後段真空ポンプ36と、排気経路を切り替える排気経路切替部37,38と、第1の処理ガスおよび第2の処理ガスのうち処理容器11内に供給される処理ガスに対応した排気経路に排ガスが流れるように、排気経路切替部37,38を制御する排気制御器41とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

複数の処理ガスを順次切り替えて供給して被処理基板上に所定の膜を成膜する成膜装置であって、 被処理基板を収容する処理容器と、 前記処理容器内に複数の処理ガスを順次供給するガス供給ユニットと、 前記処理容器内を排気する排気ユニットと を具備し、 前記排気ユニットは、 前記処理容器内を排気する前段真空ポンプと、 前記前段真空ポンプの排気側に複数分岐して設けられ、前記複数の処理ガスにそれぞれ対応した排気経路を規定する複数の分岐配管と、 前記複数の分岐配管のそれぞれに設けられた複数の後段真空ポンプと、 前記排気経路を切り替える排気経路切替部と、 前記複数の処理ガスのうち前記処理容器内に供給される処理ガスに対応した排気経路に排ガスが流れるように、前記排気経路切替部を制御する排気制御器と を有することを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

C23C16/455 ,  H01L21/205

Fターム (18件)：

4K030AA11 ,  4K030BA02 ,  4K030EA01 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030KA22 ,  4K030KA41 ,  5F045AA15 ,  5F045BB15 ,  5F045DP04 ,  5F045EE14 ,  5F045EE19 ,  5F045EG02 ,  5F045EG03 ,  5F045EG06 ,  5F045EK06 ,  5F045EK07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-103767
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-294015   出願人：株式会社日立国際電気
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-029673   出願人：株式会社日立国際電気