特許
J-GLOBAL ID：201503016956762690
画像形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-093498
公開番号（公開出願番号）：特開2015-210468
出願日： 2014年04月30日
公開日（公表日）： 2015年11月24日
要約：
【課題】本発明の解決課題は、潤滑剤塗布部材を有する画像形成方法において、長期間にわたって使用した場合にも帯電ムラによる画像欠陥の発生が抑制され、その結果、高画質な画像を長期間にわたって形成することのできる画像形成方法を提供することである。【解決手段】本発明の画像形成方法は、少なくとも、静電潜像担持体の表面を帯電し、露光することにより形成された静電潜像を、トナーにより顕像化する工程と、当該静電潜像担持体の表面に潤滑剤を塗布する工程とを有する画像形成方法であって、前記トナーが、少なくともトナー母体粒子及び外添剤微粒子を含有し、当該外添剤微粒子が、シリカ・ポリマー複合体微粒子を含有し、当該シリカ・ポリマー複合体微粒子のケイ素原子存在比率が、少なくとも下記条件Aを満たすことを特徴とする。 条件A:15.0atm%≦ケイ素原子存在比率(Si/(C+O+Si))≦30.0atm%【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、静電潜像担持体の表面を帯電し、露光することにより形成された静電潜像を、トナーにより顕像化する工程と、
当該静電潜像担持体の表面に潤滑剤を塗布する工程とを有する画像形成方法であって、
前記トナーが、少なくともトナー母体粒子及び外添剤微粒子を含有し、
当該外添剤微粒子が、シリカ・ポリマー複合体微粒子を含有し、
当該シリカ・ポリマー複合体微粒子の最表面及び最表面から深さ方向3nm以内に存在する炭素原子、酸素原子及びケイ素原子の存在量を、X線光電子分光分析装置を用いて測定したときのケイ素原子存在比率が、少なくとも下記条件Aを満たすことを特徴とする画像形成方法。
条件A:
15.0atm%≦ケイ素原子存在比率(Si/(C+O+Si))≦30.0atm%
IPC (3件)：
G03G 9/08
, G03G 9/087
, G03G 21/00
G03G9/08 375
, G03G9/08 371
, G03G9/08 325
, G03G21/00
, G03G9/08 331
2H134GA01
, 2H134GB02
, 2H134KD08
, 2H134KG07
, 2H134KH01
, 2H134LA01
, 2H500AA01
, 2H500AA09
, 2H500AA11
, 2H500CA03
, 2H500CA06
, 2H500CA27
, 2H500CA34
, 2H500CB12
, 2H500EA43D
, 2H500EA52D
, 2H500EA61A
, 2H500EA61D
