特許
J-GLOBAL ID：201503017462906556
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用アンテナユニット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西村 竜平
, 齊藤 真大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-064996
公開番号（公開出願番号）：特開2015-187951
出願日： 2014年03月27日
公開日（公表日）： 2015年10月29日
要約：
【課題】均一かつ高密度なプラズマを発生させ、このプラズマを用いて被処理物Wに表面処理を施すことにより、被処理物Wに所望の特性を持たせる。【解決手段】被処理物Wを収容する処理チャンバ10と、処理チャンバ10内にプラズマを発生させるアンテナユニット30とを具備するプラズマ処理装置100であって、アンテナユニット30が、高周波電力が給電される1又は複数の給電端子311を備え、所定の長さ有する給電側電極31と、給電側電極31に対向して設けられるとともに、接地点42に接続される1又は複数の接地端子321を備え、所定の長さを有する接地側電極32と、給電側電極と接地側電極との間に架け渡された複数のアンテナ導体33とを有するようにした。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
被処理物を収容する処理チャンバと、高周波電力が印加されて前記処理チャンバ内にプラズマを発生させるアンテナユニットとを具備するプラズマ処理装置であって、
前記アンテナユニットが、
前記高周波電力が給電される1又は複数の給電端子を備え、所定の長さを有する給電側電極と、
前記給電側電極に対向して設けられるとともに、接地点に接続される1又は複数の接地端子を備え、所定の長さを有する接地側電極と、
前記給電側電極と前記接地側電極との間に架け渡された複数のアンテナ導体とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 16/505
, H01L 21/306
, H01L 21/205
H05H1/46 L
, C23C16/505
, H01L21/302 101C
, H01L21/205
4K030FA04
, 4K030KA30
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F045AA08
, 5F045BB02
, 5F045EH02
, 5F045EH04
, 5F045EH11
