特許
J-GLOBAL ID：201003018595306712
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-111648
公開番号（公開出願番号）：特開2010-135727
出願日： 2009年04月30日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】被処理体に対して面内均一性の高いプラズマ処理を行うこと。【解決手段】載置台27と誘電体窓部材3を介して対向するようにアンテナ5を設ける。このアンテナ5は、各々長さが等しく、互いに横に平行に並べた直線状の複数のアンテナ部材51により構成されている。このアンテナ5の一端側を高周波電源部6に電源側導電路61により接続すると共に、その他端側を接地点に接地側導電路62により接続する。前記電源側導電路61及び接地側導電路62の少なくとも一方に、アンテナ5の電位分布を調整するための電位分布調整用のコンデンサ7を設け、前記高周波電源部6から各アンテナ部材51を介して接地点に至るまでの各高周波経路のインピーダンスが互いに等しくなるように設定する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理ガスが供給された処理容器内に誘導電界を発生させ、処理ガスをプラズマ化して処理容器内の載置台に載置された被処理体に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、
前記載置台と処理雰囲気を介して対向するように当該処理雰囲気の外に設けられ、各々長さが等しく、互いに横に平行に並べて構成された複数の直線状のアンテナ部材を含むアンテナと、
前記アンテナに高周波電力を供給するための高周波電源部と、
前記アンテナの一端側を前記高周波電源部に接続するための電源側導電路と、
前記アンテナの他端側を接地点に接続するための接地側導電路と、
前記電源側導電路及び接地側導電路の少なくとも一方に設けられ、アンテナの電位分布を調整するための電位分布調整用のコンデンサと、を備え、
前記高周波電源部から各アンテナ部材を介して接地点に至るまでの各高周波経路のインピーダンスが互いに等しくなるように設定されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306
, C23C 16/505
, H05H 1/46
, B08B 7/00
H01L21/302 101C
, C23C16/505
, H05H1/46 L
, H05H1/46 R
, B08B7/00
3B116AA01
, 3B116BC01
, 4K030EA05
, 4K030EA06
, 4K030FA04
, 4K030KA12
, 4K030KA45
, 4K030LA18
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004DB26
