特許

J-GLOBAL ID：201503019418632611

基板処理装置

発明者： 吉田 武司
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-068618
公開番号（公開出願番号）：特開2015-192052
出願日： 2014年03月28日
公開日（公表日）： 2015年11月02日
要約：

【課題】処理液のミストやヒュームがチャンバ蓋部の内部空間に進入することを抑制する。【解決手段】基板処理装置1では、チャンバ21内において、遮蔽板51よりも上方から蓋内部空間231にガスが供給されることにより、蓋内部空間231の気圧が本体内部空間221の気圧よりも高くなり、蓋内部空間231のガスが本体内部空間221へと送出される。また、蓋内部空間231から流入したガスは、本体内部空間221の基板9よりも下方に設けられた本体排出ポート226aにより吸引されてチャンバ21外へと排出される。これにより、略円筒状のガスの気流が、チャンバ21内に形成される。基板9の上面91に対する処理液の供給は、当該略円筒状の気流の内部にて行われるため、処理液のミストやヒューム等が、略円筒状の気流を通過して遮蔽板51と蓋底面部234との間の間隙から蓋内部空間231へと進入することを抑制することができる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板を処理する基板処理装置であって、 下部開口を有し、前記下部開口の上方に蓋内部空間を形成するチャンバ蓋部と、 本体内部空間を形成するとともに、前記チャンバ蓋部と共にチャンバを形成するチャンバ本体と、 前記本体内部空間において水平状態で基板を保持する基板保持部と、 前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給部と、 前記蓋内部空間に配置されて前記基板の前記上面に対向し、前記下部開口を閉塞可能な遮蔽板と、 前記チャンバ内において、前記遮蔽板が前記チャンバ蓋部の前記下部開口から上方に離間した状態で、前記遮蔽板よりも上方から前記蓋内部空間にガスを供給することにより、前記蓋内部空間の気圧を前記本体内部空間の気圧よりも高くし、前記蓋内部空間の前記ガスを、前記遮蔽板と前記チャンバ蓋部との間の間隙から前記下部開口を介して前記本体内部空間へと送出するガス供給部と、 前記本体内部空間において前記基板よりも下方に設けられ、前記蓋内部空間から流入した前記ガスを吸引して前記チャンバ外へと排出する排出ポートと、 を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/306 J

Fターム (29件)：

5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE37 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BB23 ,  5F157BB44 ,  5F157BC01 ,  5F157BH21 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB15 ,  5F157CC11 ,  5F157CE10 ,  5F157CE23 ,  5F157CE25 ,  5F157CE61 ,  5F157CF16 ,  5F157CF22 ,  5F157CF80 ,  5F157CF92 ,  5F157DB02 ,  5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-051810   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-061056   出願人：大日本スクリーン製造株式会社