特許
J-GLOBAL ID：200903074738732307

基板処理装置

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (4件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  皆川 祐一 ,  五郎丸 正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-061056
公開番号（公開出願番号）：特開2009-218404
出願日： 2008年03月11日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：
【課題】基板と基板の表面に対向配置される遮断部材と間にそれらの周囲の雰囲気が進入するのを防止する基板処理装置を提供する。【解決手段】スピンチャック3の上方には、処理カップ5の開口16を閉塞するための蓋部材17が、遮断板22を取り囲むように設けられている。蓋部材17と遮断板22の上面との間には、ダウンフロー導路31が形成されている。ウエハWの処理時には、処理室2内にクリーンエアのダウンフローが形成されるとともに、排気液溝37内が強制的に排気されている環境下において、空隙47を介してダウンフロー導路31に取り込まれたクリーンエアのダウンフローは、スピンチャック3に保持されたウエハWの側方に導かれる。そして、クリーンエアの気流がウエハWの側方を包囲するように形成される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
内部空間にダウンフローが形成される処理室と、 前記処理室内に設けられ、基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段により保持された基板の表面に対して上方に対向配置される基板対向面を有し、当該基板の表面上の空間をその周囲から遮断するための遮断部材と、 前記基板対向面の側方を包囲可能な形状の包囲部を有し、前記包囲部が前記基板対向面の周縁に対して側方に間隔を空けて対向する処理時位置に配置されて、前記遮断部材との間に、前記基板保持手段に保持された基板の側方にダウンフローを導くためのダウンフロー導路を形成する蓋部材と を含む、基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  G11B 7/26 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  G11B7/26 501 ,  G11B5/84 Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (34件)：
5D112AA02 ,  5D112AA06 ,  5D112AA19 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112GA08 ,  5D121BB28 ,  5D121BB38 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5F046MA10 ,  5F157AA71 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC02 ,  5F157AC14 ,  5F157BB22 ,  5F157BB52 ,  5F157BG92 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CF02 ,  5F157CF14 ,  5F157CF18 ,  5F157CF22 ,  5F157CF44 ,  5F157CF74 ,  5F157DA41 ,  5F157DB03 ,  5F157DB51 ,  5F157DC31 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-083134   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (4件)
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