特許
J-GLOBAL ID：201503021119367795
偏光ビームスプリッタ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 池田 成人
, 清水 義憲
, 酒巻 順一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-528527
公開番号（公開出願番号）：特表2015-532729
出願日： 2013年08月15日
公開日（公表日）： 2015年11月12日
要約：
偏光ビームスプリッタが開示される。偏光ビームスプリッタは、第1ポリマープリズム、第2ポリマープリズム、第1ポリマープリズム及び第2ポリマープリズムそれぞれの斜辺の間に配設され、これらに接着された反射型偏光子、並びに第1ポリマープリズム及び第2ポリマープリズムのそれぞれに配設されたハードコートを含む。偏光ビームスプリッタは、入射主表面及び出射主表面を含む。入射主表面及び出射主表面のうちの少なくとも一方は、少なくとも3Hの鉛筆硬度を有する。偏光ビームスプリッタは、第1偏光状態の偏光が、入射主表面から光学要素に入り、少なくとも2mmの偏光ビームスプリッタを通って進み、出射主表面から偏光ビームスプリッタを出るとき、偏光ビームスプリッタを出る光の少なくとも95%が偏光され、第1偏光状態を有するような、低複屈折率を有する。【選択図】図13h
請求項（抜粋）：
偏光ビームスプリッタであって、
第1ポリマープリズムと、
第2ポリマープリズムと、
前記第1ポリマープリズム及び前記第2ポリマープリズムのそれぞれの斜辺の間に配設され及び接着された反射型偏光子であり、前記反射型偏光子は、第1偏光状態の偏光を実質的に反射するとともに、相対する第2偏光状態の偏光を実質的に透過する、反射型偏光子と、
前記第1ポリマープリズム及び前記第2ポリマープリズムそれぞれの上に配設されたハードコートと、
入射主表面と、
出射主表面と、を含み、前記入射主表面及び前記出射主表面の少なくとも一方は、少なくとも3Hの鉛筆硬度を有し、前記偏光ビームスプリッタは、偏光状態の偏光が前記入射主表面から前記光学要素に入り、少なくとも2mmの前記偏光ビームスプリッタを通って進み、前記出射主表面から前記偏光ビームスプリッタを出るとき、前記偏光ビームスプリッタを出る光の少なくとも95%が偏光され、前記偏光状態を有するような、低複屈折率を有する、偏光ビームスプリッタ。
IPC (3件)：
G02B 5/30
, G02B 27/02
, G02B 1/14
G02B5/30
, G02B27/02 Z
, G02B1/14
2H149AA01
, 2H149BA03
, 2H149BA27
, 2H149FC03
, 2H149FD02
, 2H149FD47
, 2H199CA12
, 2H199CA24
, 2H199CA25
, 2H199CA27
, 2H199CA64
, 2H199CA65
, 2K009AA15
, 2K009BB14
, 2K009CC24
, 2K009CC35
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 2K009DD06
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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