特許
J-GLOBAL ID：201503021162317742
連続鋳造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
安田 敏雄
, 安田 幹雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-282956
公開番号（公開出願番号）：特開2014-124661
特許番号：特許第5777603号
出願日： 2012年12月26日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 取鍋から装入された溶鋼を連続的に鋳造する連続鋳造設備に具備されたT型タンディッシュを用いて鋳造を行う連続鋳造方法であって、
前記T型タンディッシュは、前記取鍋からの溶鋼が注入される注入室と、前記溶鋼を鋳型に装入する分配室と、前記注入室からの溶鋼を滞留させると共に前記分配室に溶鋼を装入する滞留室と、前記注入室と滞留室とを仕切る第1仕切堰と、前記滞留室と分配室とを仕切る第2仕切堰とを備え、
前記第1仕切堰には、前記注入室から滞留室へ溶鋼を通す第1流通孔を設け、前記第2仕切堰には、前記滞留室から分配室に溶鋼を通す第2流通孔を設け、前記滞留室の底部には、溶鋼にガスを吹き込むガス吹き込み部を設けており、
前記第1流通孔に関し、当該第1流通孔の上端を前記T型タンディッシュの底部からの距離が基準深さの0.4以下の位置に設定し、第1仕切堰の基準深さ面積に対する当該第1流通孔の断面積の比を0.04以上0.15以下とし、第1流通孔の穿孔角度を、水平方向を基準として流通方向に対して下向きに20deg以上45deg以下としておき、
前記第2流通孔に関し、前記第2流通孔の上端を前記T型タンディッシュの底部からの距離が基準深さの0.6以下の位置に設定し、第2流通孔の下端を前記T型タンディッシュの底部からの距離が基準深さの0.2以上の位置に設定し、第2仕切堰の基準深さ面積に対する当該第2流通孔の断面積の比を0.03以上0.09以下とし、第2流通孔の穿孔角度を水平方向を基準として流通方向に対して上向きに20deg以上45deg以下とし、
前記ガス吹き込み部に関し、前記滞留室の前壁から前記第1仕切堰までの奥行き方向の距離x1と前記滞留室の前壁からガス吹き込み部の奥行き方向の端部までの距離x2との関係を「x2/x1≦0.25」とし、前記第2仕切堰間の幅方向の距離y1とガス吹き込み部の幅方向の距離y2との関係を「0.5≦y2/y1≦1.0」とし、前記第2仕切堰間の幅方向の距離y1とガス吹き込み部の幅方向の中心位置y3と前記第2仕切堰間の幅方向の中心位置y4との関係を「0≦|y3-y4|/y1≦0.1」としておき、
前記ガス吹き込み部から溶鋼内へ吹き込むガス流量を式(1a)及び式(1b)を満たすようにし且つ、ガス吹き込み部の単位面積当たりの流量を0.0008NL/min以下とし、前記T型タンディッシュにおけるストランドの合計スループットを、3.5〜5.2ton/minで鋳造することを特徴とする連続鋳造方法。
IPC (6件)：
B22D 11/11 ( 200 6.01)
, B22D 11/10 ( 200 6.01)
, B22D 11/117 ( 200 6.01)
, B22D 11/18 ( 200 6.01)
, B22D 41/00 ( 200 6.01)
, B22D 1/00 ( 200 6.01)
B22D 11/11 B
, B22D 11/10 310 F
, B22D 11/10 310 G
, B22D 11/10 360 Z
, B22D 11/117
, B22D 11/18 F
, B22D 41/00 Z
, B22D 1/00 P
