特許
J-GLOBAL ID:201503036279685935
合成石英ガラスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-546502
公開番号(公開出願番号):特表2015-505291
出願日: 2012年12月13日
公開日(公表日): 2015年02月19日
要約:
本発明は、液体のSiO2出発材料(105)であるポリアルキルシロキサンの蒸発、SiO2出発蒸気(107)のSiO2粒子への変換、スート体(200)の形成下でのSiO2粒子の堆積、およびスート体(200)のガラス化による合成石英ガラスの製造方法に関する。本発明によれば、加熱されたSiO2出発材料(105)の蒸発は、膨張チャンバー(125)での射出段階を含んでいて、この段階では、SiO2出発材料(105)は、微細な液滴に噴霧化され、ここで、この液滴は、5μm未満の平均直径を有している、およびこの液滴の噴霧化は、180°C超の温度を有する、あらかじめ温められたキャリアガス流中で行われる。
請求項(抜粋):
合成石英ガラスの製造方法であって、以下の方法工程:
(A)ポリアルキルシロキサンD4を70質量%超有する、液体のSiO2出発材料(105)を準備する工程、
(B)液体のSiO2出発材料(105)を蒸発させて、気体のSiO2出発蒸気(107)にする工程、
(C)SiO2出発蒸気(107)をSiO2粒子に変換する工程、
(D)前記SiO2粒子を、SiO2スート体(200)の形成下に堆積面(160)に堆積させる工程、
(E)前記SiO2スート体を、合成石英ガラスの形成下にガラス化する工程、
を含んでいる前記方法において、
加熱されたSiO2出発材料(105)の蒸発が、膨張チャンバー(125)での射出段階を含んでいて、この段階において、SiO2出発材料(105)が、微細な液滴に噴霧化され、ここで、該液滴が、5μm未満の平均直径を有している、および該液滴の噴霧化が、180°C超の温度を有する、あらかじめ温められたキャリアガス流中で行われることを特徴とする前記方法。
IPC (3件):
C03B 8/04
, C03B 37/018
, G02B 1/02
FI (4件):
C03B8/04 C
, C03B8/04 D
, C03B37/018 C
, G02B1/02
Fターム (5件):
4G014AH12
, 4G014AH15
, 4G021EA03
, 4G021EB04
, 4G021EB06
引用特許: