特許

J-GLOBAL ID：201503036863070357

細胞培養足場基材、マイクロ流体デバイス及びそれを用いたハイスループットナノファイバースクリーニング方法

発明者： 亀井 謙一郎 ,  眞下 泰正 ,  劉 莉 ,  陳 勇
出願人/特許権者： 国立大学法人京都大学
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-263585
公開番号（公開出願番号）：特開2015-116174
出願日： 2013年12月20日
公開日（公表日）： 2015年06月25日
要約：

【課題】効率的にナノファイバーの評価が可能なマイクロ流体デバイスを提供する。【解決手段】ナノファイバーからなる複数の人工細胞外マトリクス部を基板上に所定の間隔で配置してなる細胞培養足場基材。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

ナノファイバーからなる複数の人工細胞外マトリクス部を基板上に所定の間隔で配置してなる細胞培養足場基材。

IPC (7件)：

C12M 1/00 ,  C12M 1/34 ,  C12N 5/074 ,  C12N 11/02 ,  C12Q 1/02 ,  G01N 35/02 ,  G01N 37/00

FI (7件)：

C12M1/00 A ,  C12M1/34 A ,  C12N5/00 202D ,  C12N11/02 ,  C12Q1/02 ,  G01N35/02 A ,  G01N37/00 103

Fターム (29件)：

2G058CC02 ,  2G058CC05 ,  2G058CC08 ,  4B029AA02 ,  4B029AA07 ,  4B029BB11 ,  4B029CC10 ,  4B029CC11 ,  4B029FA15 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10 ,  4B033NA16 ,  4B033NB34 ,  4B033NB57 ,  4B033NC02 ,  4B033ND02 ,  4B033ND05 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ20 ,  4B063QQ61 ,  4B063QQ91 ,  4B063QR77 ,  4B063QR82 ,  4B063QS39 ,  4B063QX01 ,  4B065AA90X ,  4B065BC42 ,  4B065CA44 ,  4B065CA60

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ナノファイバーパターン基材及び該基材を用いた成型体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-229788   出願人：東レ株式会社
• 細胞培養用足場材料、その製造方法、細胞培養用モジュール
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-123189   出願人：三菱レイヨン株式会社