特許
J-GLOBAL ID：201503036918478415
チアジアゾールの調製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山本 秀策
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512873
公開番号（公開出願番号）：特表2015-517531
出願日： 2013年05月17日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
要約：
本発明は、(ヒドロキシ)メタンスルホネートなどの、保護化グリセルアルデヒドを調製するための方法に関する。加えて、本発明は、チアジアゾール、特に3-ジオオキソラニル-チアジアゾールに関する。本発明は概して、グリセリルアルデヒド亜硫酸水素塩付加物およびそれらの調製方法を対象としている。本発明は、置換スルフィドチアジアゾールおよびチアジアゾールスルホンの形成を対象としている。本発明の別の実施形態は、5-置換チオ-チアジアゾールの、対応するオキシムからの形成を対象としている。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
の形成方法であって、
ヒドロキシル((4R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メタンスルホネートの塩を中和し、NH2OHで処理して、オキシムを形成すること、
前記オキシムの塩素化の後に、MsClで処理して、クロロメシレートを形成すること、
前記クロロメシレートをチオシアネートで処理して、アシルチオイソシアネートを形成すること、および
前記アシルチオイソシアネートを4-メチルフェニルチオールで処理して、チアジアゾールを形成すること、を含む、方法。
IPC (3件)：
C07D 417/04
, C07D 317/20
, C07D 317/72
C07D417/04
, C07D317/20
, C07D317/72
4C022FA02
, 4C063AA01
, 4C063BB01
, 4C063CC81
, 4C063DD67
, 4C063EE05
