特許
J-GLOBAL ID:201503037718520774
ラインパターンの形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
正林 真之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-239117
公開番号(公開出願番号):特開2015-099263
出願日: 2013年11月19日
公開日(公表日): 2015年05月28日
要約:
【課題】低露光量、且つ幅広い範囲の露光量で、所望する寸法、且つ断面形状が裾引きのない矩形であるラインパターンを形成できる、ネガ型感光性樹脂組成物からなる塗布膜をハーフトーンマスクを介して露光することによるラインパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物からなる塗布膜をハーフトーンマスクを介して露光してラインパターンを形成する際に、(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性モノマーと、特定の構造のオキシム系化合物を含む(C)光重合開始剤と、(D)着色剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物を用いる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性モノマーと、(C)光重合開始剤と、(D)着色剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
ライン状の半透光部と、前記半透光部に隣接する遮光部とを有する半遮光性のフォトマスクを介して前記塗布膜を露光する工程と、
露光された前記塗布膜を現像して、凹部と凸部とを有するラインパターンを形成する工程と、を含み、
前記(C)光重合開始剤が、下記式(c-1):
IPC (3件):
G03F 7/031
, G03F 7/004
, G02B 5/20
FI (3件):
G03F7/031
, G03F7/004 505
, G02B5/20 101
Fターム (22件):
2H125AC34
, 2H125AC36
, 2H125AC54
, 2H125AD06
, 2H125AD14
, 2H125AD24
, 2H125AN34P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN56P
, 2H125AP03P
, 2H125BA02P
, 2H125BA16P
, 2H125CA18
, 2H125CB02
, 2H125CC01
, 2H125CC13
, 2H148BC09
, 2H148BC10
, 2H148BE36
, 2H148BG02
, 2H148BH18
引用特許: