アライメント方法及びパターニング用マスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：家入健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-175496
公開番号（公開出願番号）：特開2015-046427
出願日： 2013年08月27日
公開日（公表日）： 2015年03月12日
要約：

【課題】マスク成膜において高精度なパターニング成膜を行う。【解決手段】孔内面を有するマスクアライメントマーク60を備えるマスク50を用いて行うアライメント方法において、孔内面の備えるテーパ面65がウエハ30に対して反対側を向くように、ウエハ表面31にマスク50を重ね合わせる重層工程と、ウエハ30及びマスク50を重ね合わせた状態で、マスクアライメントマーク60、及びマスクアライメントマーク60の孔内を通じて観察されるウエハ表面31を撮像する撮像工程と、撮像工程で得られた像に基づいて、ウエハ表面31のウエハアライメントマーク40及びマスクアライメントマーク60の位置合わせ状態を確認する確認工程と、確認工程の結果、ウエハアライメントマーク40に対するマスクアライメントマーク60の位置が合っていない場合に、ウエハ30及びマスク50の位置合わせを行う調整工程と、を備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

孔内面を有するマスクアライメントマークを備えるマスクを用いて行うアライメント方法において、前記孔内面の備えるテーパ面がウエハに対して反対側を向くように、ウエハ表面に前記マスクを重ね合わせる重層工程と、前記ウエハ及びマスクを重ね合わせた状態で、前記マスクアライメントマーク、及び前記マスクアライメントマークの孔内を通じて観察される前記ウエハ表面を撮像する撮像工程と、前記撮像工程で得られた像に基づいて、前記ウエハ表面のウエハアライメントマーク及び前記マスクアライメントマークの位置合わせ状態を確認する確認工程と、前記確認工程の結果、前記ウエハアライメントマークに対する前記マスクアライメントマークの位置が合っていない場合に、前記ウエハ及び前記マスクの位置合わせを行う調整工程と、を備えるアライメント方法。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027 , G03F 9/00 , C23C 14/04

FI (4件)：

H01L21/68 F , H01L21/30 502M , G03F9/00 Z , C23C14/04 A

Fターム (28件)：

2H097KA12 , 2H097KA13 , 2H097KA18 , 2H097KA23 , 2H097KA40 , 4K029AA24 , 4K029BD01 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029DA03 , 4K029HA03 , 4K029HA04 , 5F131AA02 , 5F131BA01 , 5F131CA69 , 5F131FA10 , 5F131KA14 , 5F131KA44 , 5F131KA47 , 5F131KA63 , 5F131KA72 , 5F131KB07 , 5F146EA21 , 5F146EB01 , 5F146EB02 , 5F146EC05 , 5F146ED01 , 5F146FA10

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭49-018472
露光装置、デバイス製造方法及び基板
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-225759 出願人：株式会社ニコン

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