特許
J-GLOBAL ID:201203004141105570
露光装置、デバイス製造方法及び基板
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-225759
公開番号(公開出願番号):特開2012-080004
出願日: 2010年10月05日
公開日(公表日): 2012年04月19日
要約:
【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。【解決手段】本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。アライメント系4は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークAMを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
露光対象の基板に回路パターンを露光する露光部と、
前記基板を貫通して設けられ、前記露光の位置基準となるアライメントマークに光を通して前記基板の位置を検出するアライメント系を備える、露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
FI (3件):
H01L21/30 525F
, G03F9/00 A
, H01L21/68 F
Fターム (44件):
2H097AA01
, 2H097AA03
, 2H097BA10
, 2H097GB00
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA15
, 2H097KA20
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 2H097LA20
, 5F031CA02
, 5F031HA13
, 5F031HA16
, 5F031HA57
, 5F031HA58
, 5F031HA59
, 5F031JA04
, 5F031JA06
, 5F031JA22
, 5F031JA27
, 5F031JA32
, 5F031JA38
, 5F031MA27
, 5F046AA15
, 5F046BA03
, 5F046BA07
, 5F046EA02
, 5F046EA21
, 5F046EB01
, 5F046EB08
, 5F046FB08
, 5F046FB10
, 5F046FC09
, 5F146AA15
, 5F146BA03
, 5F146BA07
, 5F146EA02
, 5F146EA21
, 5F146EB01
, 5F146EB08
, 5F146FB08
, 5F146FB10
, 5F146FC09
引用特許:
審査官引用 (11件)
-
基板方向検出方法および描画システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-177603
出願人:ペンタックス株式会社
-
パターニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-270871
出願人:フジノン株式会社
-
投影露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-063219
出願人:株式会社ニコン
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