特許
J-GLOBAL ID:201503045822266394
インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-083998
公開番号(公開出願番号):特開2014-241396
出願日: 2014年04月15日
公開日(公表日): 2014年12月25日
要約:
【課題】基板上に形成されたショット領域にモールドのパターンを精度よく転写する上で有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させることにより前記基板上のショット領域に前記モールドのパターンを転写するインプリント装置は、前記基板における複数の部分の各々を加熱することにより当該ショット領域の形状を変形させる加熱部と、制御部と、を含み、前記制御部は、前記ショット領域の形状が目標形状に近づくように前記複数の部分の各々における加熱プロファイルを生成し、生成した前記加熱プロファイルに従って前記複数の部分の各々を加熱するように前記加熱部を制御する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させることにより前記基板上のショット領域に前記モールドのパターンを転写するインプリント装置であって、
前記基板における複数の部分の各々を加熱することにより当該ショット領域の形状を変形させる加熱部と、
制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記ショット領域の形状が目標形状に近づくように前記複数の部分の各々における加熱プロファイルを生成し、生成した前記加熱プロファイルに従って前記複数の部分の各々を加熱するように前記加熱部を制御する、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
Fターム (21件):
4F209AA45
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH38
, 4F209AP05
, 4F209AP10
, 4F209AR06
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN03
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F146AA31
, 5F146DA07
, 5F146DA26
, 5F146EB01
, 5F146EB02
, 5F146ED01
引用特許:
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