特許
J-GLOBAL ID：201503047036037082

有機EL素子の製造方法、有機EL装置、及び電子機器

発明者：
渡辺 昭太朗

渡辺 昭太朗 について

, 
内田 昌宏

内田 昌宏 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  渡辺 和昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-210774
公開番号（公開出願番号）：特開2015-076220
出願日： 2013年10月08日
公開日（公表日）： 2015年04月20日
要約：
【課題】塗布法と低分子材料を含有するインクとの組み合わせで、均一な発光が得られる有機EL素子を形成する。【解決手段】有機EL素子の製造方法は、画素電極と、画素電極の周囲を囲む隔壁とで構成される塗布領域に機能層形成材料を含有するインクを塗布する工程を有し、該工程は、インクの隔壁の側面に対する接触角θbcとし、インクが塗布される塗布領域の表面に対する接触角θlcとした場合に、下記の式(1)〜(3)を満たすように上記インクを塗布する工程を含むことを特徴とする。 θbc≦θlc・・・・(1) θbc≦5度・・・・・(2) θlc≦20度・・・・(3)【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板上に、画素電極を形成する第1の工程と、 前記画素電極の周囲を囲む隔壁を形成する第2の工程と、 前記隔壁で囲まれた塗布領域に機能層形成材料を含有するインクを塗布する第3の工程と、 塗布された前記インクを乾燥させて前記塗布領域に機能層を形成する第4の工程と、を含み、 前記第2の工程は、前記画素電極の表面に対して交差する前記隔壁の側面が、前記画素電極の表面に対して40度〜60度の角度をなすように前記隔壁を形成し、 前記第3の工程は、前記インクの前記隔壁の側面に対する接触角をθbcとし、前記インクが塗布される前記塗布領域の表面に対する接触角をθlcとした場合に、下記の式(1)〜(3)を満たすように前記インクを塗布する工程を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 θbc≦θlc・・・・(1) θbc≦5度・・・・・(2) θlc≦20度・・・・(3)
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22
FI (4件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z
Fターム (7件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107DD89 ,  3K107FF09 ,  3K107FF15 ,  3K107GG08
引用特許：
審査官引用 (5件)
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