特許

J-GLOBAL ID：200903077683341647

光学素子とその製造方法

発明者： 江嶋 恒行 ,  広瀬 貴之
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (2件)： 原田 洋平 ,  森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-115068
公開番号（公開出願番号）：特開2009-302042
出願日： 2009年05月12日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：

【課題】画素において、所望の範囲で膜厚の良好な均一性を得ることができるとともに、画素周縁部で電極のショートを防止する膜厚を容易に確保することができる光学素子とその製造方法を提供する。【解決手段】画素3を作成するために使用するインクとして、隔壁2の傾斜角Ψとの関係から最適な後退接触角となるインクを選ぶことにより、有効画素領域5内において、最大膜厚tmaxと平均膜厚の差および最小膜厚tminと平均膜厚の差が、それぞれ平均膜厚の35%以内となり、かつ、画素3の周縁部の膜厚teが隔壁2の高さの35%以上となるように、画素3を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

支持基板上に、傾斜角が50度ないし80度の範囲の傾斜を有する隔壁と、前記隔壁の開口部に対して付与されたインクを硬化して前記開口部内に形成された画素とを備えた光学素子であって、 前記画素は、 前記隔壁に対する接触角が28度以下となるインクを用いて、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの35%以上となり、前記画素の表示に寄与する有効画素領域内において、最大膜厚と平均膜厚との差および最小膜厚と前記平均膜厚との差が、それぞれ前記平均膜厚の35%以内となるように形成された ことを特徴とする光学素子。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/12

FI (5件)：

H05B33/10 ,  G09F9/00 338 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 ,  H05B33/12 B

Fターム (13件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107DD89 ,  3K107FF09 ,  3K107FF15 ,  3K107GG08 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435KK05 ,  5G435LL04 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 膜パターンの形成方法、膜パターン、デバイス、電気光学装置、及び電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-138095   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 分子電子装置の形成方法及びその構造
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-551932   出願人：ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミテッド
• 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置の製造装置、電気光学装置、並びに電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-070954   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 膜厚を平坦化する隔壁
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-044271   出願人：凸版印刷株式会社