特許
J-GLOBAL ID：201503047162579656

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びにこれらを用いた電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス

発明者：
二橋 亘

二橋 亘 について

, 
滝沢 裕雄

滝沢 裕雄 について

, 
平野 修史

平野 修史 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-038923
公開番号（公開出願番号）：特開2013-174715
特許番号：特許第5719788号
出願日： 2012年02月24日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(A) フェノール骨格を備える繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を有する繰り返し単位とを有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、 (B) 前記膜を露光することと、 (C) 有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することと を含んだパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  C08F 220/10 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R ,  C08F 220/10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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