特許
J-GLOBAL ID:201503050479349401
インプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
藤枡 裕実
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
, 立石 英之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-252515
公開番号(公開出願番号):特開2015-092599
出願日: 2014年12月12日
公開日(公表日): 2015年05月14日
要約:
【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】 ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域とは別のメサ構造に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に接する別の被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ステップアンドリピート方式のインプリント方法により、複数の隣接した被転写領域と基板側アライメントマークとを有する被転写基板に、凹凸の転写パターンを、位置合わせして転写するためのインプリント用モールドであって、
第1のメサ構造に、前記凹凸の転写パターンが形成された転写領域を有しており、前記第1のメサ構造とは別の第2のメサ構造に、前記基板側アライメントマークと位置合わせするためのモールド側アライメントマークを有しており、
前記モールド側アライメントマークは、前記インプリント用モールドを前記被転写基板上の1つの被転写領域にインプリントする際の該被転写領域に接する他の被転写領域内に形成された前記基板側アライメントマークの少なくともいずれか1つと相対する位置に形成されており、
前記転写領域において、前記インプリント用モールドを前記被転写基板上の1つの被転写領域にインプリントする際に該被転写領域に形成された基板側アライメントマークの位置に重なる部位には、転写領域内マーク対応部が形成されていることを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (3件):
H01L 21/027
, B29C 59/02
, B29C 33/38
FI (4件):
H01L21/30 502D
, H01L21/30 506A
, B29C59/02 Z
, B29C33/38
Fターム (29件):
4F202AA44
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH33
, 4F202AJ06
, 4F202AR07
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD05
, 4F202CD23
, 4F202CK12
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 5F146AA32
, 5F146EA12
, 5F146EA15
, 5F146EB02
, 5F146EB10
引用特許:
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