特許
J-GLOBAL ID：200903025725086120
パターン形成方法およびモールド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-009369
公開番号（公開出願番号）：特開2007-190734
出願日： 2006年01月18日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】ナノインプリント法では、ディスク基板のように中心部に開口部が形成された基板とモールドとの高精度な位置合わせが困難という問題がある。また、機械的接触による位置合わせマーク損傷による位置合わせ不良も問題となる。【解決手段】微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に2箇所以上にする。更に、それぞれのマークの位置情報や形状から破損したマークを同定し、破損したマークを除いてモールドと樹脂膜が塗布された基板との位置合わせを行うことにより解決する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
凹凸形状のパターンが形成されたモールドを樹脂膜が塗布された基板に押し付けて、該凹凸パターンを基板表面に転写するパターン形成方法において、前記モールドは、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円上に2箇所以上有し、前記アライメントマークと基板の円形開口部の端部との相対位置関係よりモールドと基板との位置合わせを行うことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (7件)：
B29C 59/02
, G11B 5/84
, B29C 33/42
, B29C 33/38
, B81C 5/00
, H01L 21/027
, B82B 3/00
B29C59/02 B
, G11B5/84 Z
, B29C33/42
, B29C33/38
, B81C5/00
, H01L21/30 502D
, B82B3/00
4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH38
, 4F202AH79
, 4F202AP11
, 4F202AR12
, 4F202CA09
, 4F202CB01
, 4F202CD07
, 4F202CD23
, 4F202CK43
, 4F209AA36
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AH79
, 4F209AP06
, 4F209AQ01
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PC06
, 4F209PC07
, 4F209PC08
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BA10
, 5D112GA00
, 5F046AA28
