特許
J-GLOBAL ID:201503053950233051

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 楊井 清志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-178849
公開番号(公開出願番号):特開2014-240982
出願日: 2014年09月03日
公開日(公表日): 2014年12月25日
要約:
【課題】300nm以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。【解決手段】 下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む質量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。【化】(式中、R1は、重合性二重結合含有基を表し、R2は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、R8は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、W1は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の含フッ素高分子化合物と溶剤を少なくとも含み、溶剤が炭素数5〜20の炭化水素を50〜99.9質量%、炭素数1〜20のアルコールを0.1〜50質量%で混合した混合溶媒である、トップコート組成物溶液。 (下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む質量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。
IPC (6件):
G03F 7/11 ,  C08F 20/22 ,  C08F 16/24 ,  C09D 127/12 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004
FI (6件):
G03F7/11 501 ,  C08F20/22 ,  C08F16/24 ,  C09D127/12 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501
Fターム (56件):
2H125AF17P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AH12 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM23N ,  2H125AM94N ,  2H125AM99N ,  2H125AN11N ,  2H125AN39N ,  2H125AN39P ,  2H125AN63P ,  2H125BA01N ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD08N ,  2H125CD12N ,  2H125CD39 ,  2H125CD40 ,  2H125DA03 ,  2H125FA03 ,  4J038CD091 ,  4J038NA07 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA11R ,  4J100BA20P ,  4J100BA59P ,  4J100BB07P ,  4J100BB12P ,  4J100BB13P ,  4J100BB17R ,  4J100BB18P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA39 ,  4J100JA01 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (2件)

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