特許
J-GLOBAL ID:201503053950233051
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
楊井 清志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-178849
公開番号(公開出願番号):特開2014-240982
出願日: 2014年09月03日
公開日(公表日): 2014年12月25日
要約:
【課題】300nm以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。【解決手段】 下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む質量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。【化】(式中、R1は、重合性二重結合含有基を表し、R2は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、R8は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、W1は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の含フッ素高分子化合物と溶剤を少なくとも含み、溶剤が炭素数5〜20の炭化水素を50〜99.9質量%、炭素数1〜20のアルコールを0.1〜50質量%で混合した混合溶媒である、トップコート組成物溶液。
(下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む質量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。
IPC (6件):
G03F 7/11
, C08F 20/22
, C08F 16/24
, C09D 127/12
, G03F 7/039
, G03F 7/004
FI (6件):
G03F7/11 501
, C08F20/22
, C08F16/24
, C09D127/12
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
Fターム (56件):
2H125AF17P
, 2H125AF35P
, 2H125AF36P
, 2H125AH12
, 2H125AH19
, 2H125AH24
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM23N
, 2H125AM94N
, 2H125AM99N
, 2H125AN11N
, 2H125AN39N
, 2H125AN39P
, 2H125AN63P
, 2H125BA01N
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CD08N
, 2H125CD12N
, 2H125CD39
, 2H125CD40
, 2H125DA03
, 2H125FA03
, 4J038CD091
, 4J038NA07
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03P
, 4J100BA05P
, 4J100BA11R
, 4J100BA20P
, 4J100BA59P
, 4J100BB07P
, 4J100BB12P
, 4J100BB13P
, 4J100BB17R
, 4J100BB18P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC43P
, 4J100BC53R
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA39
, 4J100JA01
, 4J100JA38
引用特許:
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