ポリシロキサン多孔体とその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鎌田耕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-181138
公開番号（公開出願番号）：特開2015-048417
出願日： 2013年09月02日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：

【課題】ポリシロキサンから構成される骨格を有しながらも柔軟であり、物体の接触等によっても撥液性が失われ難く、超撥液性の実現も可能なポリシロキサン多孔体の提供。【解決手段】2官能性ケイ素化合物と多官能性ケイ素化合物とを含み、これらの少なくとも1つが反応性基を有する溶液系にて、ゾル-ゲル法によるケイ素化合物の加水分解及び重合ならびに前記系の相分離を進行させることにより、ケイ素化合物の重合体であって反応性基を有するポリシロキサンに富む骨格相と、溶液相とから構成され、骨格相および溶液相の共連続構造を有するゲルを得る工程と;ゲルを乾燥させて、骨格相を骨格とし、溶液相をマクロ孔として、骨格およびマクロ孔の共連続構造を有するポリシロキサン多孔体を得る工程と;ポリシロキサンが有する反応性基と、撥液性基を有する化合物とを化学反応させて、ポリシロキサンに撥液性基を結合させる工程と;を含む製造方法とする。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

ポリシロキサンから構成された骨格と、マクロ孔との共連続構造を有するポリシロキサン多孔体であって、前記ポリシロキサンに撥液性基が結合しており、前記多孔体の表面におけるn-ヘキサデカンの接触角が150°以上である、ポリシロキサン多孔体。

IPC (2件)：

C08J 9/28 , C08G 77/385

FI (2件)：

C08J9/28 101 , C08G77/385

Fターム (38件)：

4F074AA90 , 4F074AB03 , 4F074AD13 , 4F074CB34 , 4F074CB45 , 4F074CB47 , 4F074CC22X , 4F074CC27X , 4F074CC28Y , 4F074DA08 , 4F074DA17 , 4F074DA43 , 4F074DA53 , 4J246AA03 , 4J246AB15 , 4J246BA140 , 4J246BA14X , 4J246BB020 , 4J246BB02X , 4J246CA240 , 4J246CA24X , 4J246CA34U , 4J246CA47M , 4J246FA071 , 4J246FA131 , 4J246FA212 , 4J246FA621 , 4J246FE07 , 4J246GA20 , 4J246GB13 , 4J246GB18 , 4J246GC32 , 4J246GC49 , 4J246GD05 , 4J246GD06 , 4J246HA08 , 4J246HA36 , 4J246HA52

引用特許：

審査官引用 (2件)

シリカエアロゲル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-243906 出願人：松下電工株式会社
半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-087341 出願人：三井化学株式会社

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