特許

J-GLOBAL ID：201503076464436714

粒子線治療システムおよびリッジフィルタならびにリッジフィルタの製造方法

発明者： 高柳 泰介 ,  藤高 伸一郎 ,  藤井 祐介 ,  松田 浩二 ,  中島 千博 ,  寅松 千枝 ,  松浦 妙子 ,  宮本 直樹 ,  二本木 英明 ,  梅垣 菊男 ,  平田 雄一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (2件)： 春日 讓 ,  猪野木 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-260896
公開番号（公開出願番号）：特開2015-116284
出願日： 2013年12月18日
公開日（公表日）： 2015年06月25日
要約：

【課題】ブラッグピーク幅を十分に広げることが可能なスポットサイズの小さな粒子線治療システムと、このような粒子線治療システムに好適なリッジフィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】ビームの飛程を分散させる機能を備えたリッジフィルタ101を備え、このリッジフィルタ101を構成する構造体301は、構造体301の繰り返し方向において点対称形状且つ左右非対称形状である。また深さ方向の最上流面301Aおよび最下流面301Bの繰り返し方向の厚さが等しく、最上流面301Aや最下流面301Bより繰り返し方向の厚さが厚い部分が深さ方向において存在しない構造である。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

リッジフィルタを備えた粒子線治療システムであって、 前記リッジフィルタは、このリッジフィルタにおける粒子線入射方向と同じ方向を深さ方向、前記粒子線入射方向と垂直をなす平面における前記リッジフィルタの一方の方向を繰り返し方向、もう一方の方向を奥行き方向とそれぞれ定義したときに、前記繰り返し方向に複数個配置された構造体を有し、 この構造体は、前記繰り返し方向の中心線に対して左右非対称形状で、前記繰り返し方向の中心線と前記深さ方向の中心線との交点に対して点対称形状で、前記深さ方向の最上流面および最下流面の前記繰り返し方向厚さが等しく、前記面より前記繰り返し方向の厚さが厚い部分が前記深さ方向において存在しない ことを特徴とする粒子線治療システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 N ,  A61N5/10 H

Fターム (5件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG13 ,  4C082AG31

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 荷電粒子照射野形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-339855   出願人：三菱電機株式会社