特許
J-GLOBAL ID：201503076944532993

レーザ加工装置

発明者：
中井 孝洋

中井 孝洋 について

, 
福岡 輝章

福岡 輝章 について

, 
中村 直幸

中村 直幸 について

, 
瀬口 正記

瀬口 正記 について

, 
進士 忠彦

進士 忠彦 について

, 
森本 貴景

森本 貴景 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について

, 
国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-207593
公開番号（公開出願番号）：特開2015-071175
出願日： 2013年10月02日
公開日（公表日）： 2015年04月16日
要約：
【課題】高速かつ安定したピアス加工が可能なレーザ加工装置を得ること。【解決手段】保持テーブル上に保持された加工対象物に照射するパルス状のレーザビームを出力するレーザ発振器1と、前記レーザビームを前記加工対象物上において移動させて前記レーザビームを前記加工対象物に照射させるレーザビーム移動部8と、を備え、前記レーザビーム移動部8は、既定の移動パターンおよび既定の周期パターンで前記レーザビームを前記加工対象物上において移動させ、前記レーザ発振器1は、前記レーザビームの周波数が前記周期パターンの周波数の定数倍になる条件で前記レーザビームを出力する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
保持テーブル上に保持された加工対象物に照射するパルス状のレーザビームを出力するレーザ発振器と、 前記レーザビームを前記加工対象物上において移動させて前記レーザビームを前記加工対象物に照射させるレーザビーム移動部と、 を備え、 前記レーザビーム移動部は、特定の移動パターンおよび特定の周期パターンで前記レーザビームを前記加工対象物上において移動させ、 前記レーザ発振器は、前記レーザビームの周波数が前記周期パターンの周波数の定数倍になる条件で前記レーザビームを出力すること、 を特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/382 ,  B23K 26/082 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/064
FI (4件)：
B23K26/38 330 ,  B23K26/08 B ,  B23K26/00 N ,  B23K26/06 A
Fターム (16件)：
4E068AF01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CB02 ,  4E068CD15 ,  4E068CE02 ,  4E068CH08 ,  4E068DA10 ,  4E068DA11 ,  4E068DB01 ,  4E068DB02 ,  4E068DB10 ,  4E068DB11 ,  4E068DB12 ,  4E068DB13
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM