特許
J-GLOBAL ID：201503081990479677
フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
特許業務法人 津国
, 津国 肇
, 柳橋 泰雄
, 伊藤 佐保子
, 三宅 俊男
, 柴田 明夫
, 石岡 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-123396
公開番号（公開出願番号）：特開2015-062054
出願日： 2014年06月16日
公開日（公表日）： 2015年04月02日
要約：
【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできるフォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】本発明のフォトマスクの製造方法は、パターン設計データAを用意する工程と、フォトマスクを露光装置に保持することに起因する主表面の変形分であって、自重たわみ成分以外の変形分を示す、転写面修正データDを得る工程と、描画装置のステージ上にフォトマスクブランクを載置した状態における、主表面の高さ分布を示す、描画時高さ分布データEを得る工程と、描画時高さ分布データEと、転写面修正データDとの差分により、描画差分データFを得る工程と、描画差分データFに対応する座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、描画用座標ずれ量データGと、パターン設計データAを用いて、フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と、を有する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板の主表面上に薄膜とフォトレジスト膜とが形成されたフォトマスクブランクを用意し、描画装置により、所定の転写用パターンを描画することを含む、フォトマスクの製造方法において、
前記所定の転写用パターンの設計を基にパターン設計データAを用意する工程と、
前記フォトマスクを、露光装置に保持することに起因する前記主表面の変形分であって、自重たわみ成分以外の前記主表面の変形分を示す、転写面修正データDを得る工程と、
前記描画装置のステージ上に、前記主表面を上側にして前記フォトマスクブランクを載置した状態における、前記主表面の高さ分布を示す、描画時高さ分布データEを得る工程と、
前記描画時高さ分布データEと、前記転写面修正データDとの差分により、描画差分データFを得る工程と、
前記描画差分データFに対応する、前記主表面上の複数点における、座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、
前記描画用座標ずれ量データGと、前記パターン設計データAを用いて、前記フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と
を有する、フォトマスクの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/76
, G03F 1/42
, G03F 1/84
G03F1/76
, G03F1/42
, G03F1/84
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BB08
, 2H095BB33
, 2H095BB34
, 2H095BC09
, 2H095BD06
, 2H195BA01
, 2H195BA02
, 2H195BB02
, 2H195BB08
, 2H195BB33
, 2H195BB34
, 2H195BC09
, 2H195BD06
