特許

J-GLOBAL ID：201503086088642753

アイソトープ製造システムのためのターゲットウィンドウ

発明者： ノーリング,ジョナス・オーヴ ,  グラナス,カリン
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (4件)： 荒川 聡志 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久 ,  田中 拓人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-503213
公開番号（公開出願番号）：特表2015-512517
出願日： 2013年02月26日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：

アイソトープ製造システムのためのターゲットウィンドウを提供する。1つのターゲットウィンドウが、スタック構造の複数の膜部材を備える。膜部材は側部を有し、少なくとも1つの膜部材の側部は、少なくとも1つの他の膜部材の側部と係合する。さらに、少なくとも2つの膜部材が、異なる材料で形成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アイソトープ製造システム(100)のためのターゲットウィンドウ(20)であって、 前記ターゲットウィンドウ(20)は、スタック構造の複数の膜部材を備え、前記膜部材は側部を有し、少なくとも1つの前記膜部材の前記側部が、少なくとも1つの他の前記膜部材の前記側部と係合し、少なくとも2つの前記膜部材が、異なる材料から形成される、ターゲットウィンドウ(20)。

IPC (3件)：

G21K 5/08 ,  H05H 6/00 ,  G21K 5/00

FI (4件)：

G21K5/08 R ,  H05H6/00 ,  G21K5/00 W ,  G21K5/08 C

Fターム (4件)：

2G085AA03 ,  2G085AA11 ,  2G085BA16 ,  2G085BA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 放射性同位元素製造装置、及びターゲットのリサイクル方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-287352   出願人：株式会社日立製作所