特許
J-GLOBAL ID：201503086519438075

基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法

発明者：
加藤 洋

加藤 洋 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (3件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  安田 昌秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-127661
公開番号（公開出願番号）：特開2015-002328
出願日： 2013年06月18日
公開日（公表日）： 2015年01月05日
要約：
【課題】基板の回転速度に依らずに基板の下面を保護することができ、構成が簡単であり、しかも摩擦接触に起因するパーティクルの発生を抑制する。【解決手段】基板処理装置1は、回転台7と、回転駆動機構3と、回転台7に設けられた保持ピン10と、基板Wの下面を覆うための保護ディスク15と、保護ディスク15を回転台7から浮上させる磁気浮上機構41とを含む。保護ディスク15は、下位置と、下位置よりも上方において基板Wの下面に接近した接近位置との間で上下動可能である。磁気浮上機構41は、保護ディスク側永久磁石60と、スプラッシュガード4に保持された環状のガード側永久磁石25とを含む。ガード駆動機構5によってスプラッシュガード4を上昇させると、永久磁石25,60の間の磁気反発力によって、保護ディスク15を回転台7から浮上させて接近位置に保持できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
鉛直方向に沿う回転軸線まわりに回転可能な回転台と、 前記回転台を回転させる回転駆動手段と、 前記回転台とともに前記回転軸線まわりに回転するように前記回転台に設けられ、前記回転台から上方に延びており、前記回転台と基板とが鉛直方向に離れた状態で当該基板を水平に保持する保持部材と、 前記保持部材の全周を取り囲む開口を有しており、前記回転台と前記保持部材による基板保持位置との間に配置され、下位置と、下位置よりも上方において前記保持部材に保持された基板の下面に接近した接近位置との間で前記回転台に対して相対的に上下動可能であり前記回転台とともに前記回転軸線まわりに回転するように前記回転台に取り付けられ、前記保持部材によって保持される基板より大きい保護ディスクと、 前記保護ディスクに取り付けられた第1磁石と、前記回転軸線と同軸の環状に形成され前記第1磁石に対して反発力を与える第2磁石と、前記第2磁石を非回転状態で支持する第1支持部材と、前記第1磁石と前記第2磁石との間の距離が変化するように前記第1支持部材と前記回転台とを相対移動させる第1相対移動機構とを含み、前記第1磁石と前記第2磁石との間の反発力によって前記保護ディスクを前記回転台から浮上させる磁気浮上機構とを含む、基板保持回転装置。
IPC (4件)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
H01L21/68 N ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648Z ,  H01L21/306 R ,  H01L21/30 564C ,  H01L21/30 569C
Fターム (33件)：
5F043DD13 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131AA33 ,  5F131AA34 ,  5F131BA37 ,  5F131CA15 ,  5F131CA37 ,  5F131DA02 ,  5F131DA09 ,  5F131DA42 ,  5F131DB02 ,  5F131EA06 ,  5F131EA14 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EB32 ,  5F131EB37 ,  5F131FA15 ,  5F131FA32 ,  5F146JA07 ,  5F146JA11 ,  5F146LA01 ,  5F146LA19 ,  5F157AB02 ,  5F157AB12 ,  5F157AB18 ,  5F157AB90 ,  5F157CF12 ,  5F157DC31
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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