特許
J-GLOBAL ID：201503099151148556

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
根本 剛直

根本 剛直 について

, 
野沢 俊久

野沢 俊久 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  扇田 尚紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-218985
公開番号（公開出願番号）：特開2015-082546
出願日： 2013年10月22日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：
【課題】プラズマ処理装置内の処理ガスを整流し、プラズマ処理を適切に行う。【解決手段】プラズマ処理装置1は、ウェハWを収容する処理容器10と、処理容器10の底面に設けられ、ウェハWを載置する載置台20と、処理容器10の天井面中央部に設けられ、当該処理容器10の内部に第1の処理ガスT1を供給する第1の処理ガス供給管60と、処理容器10の側面に設けられ、当該処理容器10の内部に第2の処理ガスT2を供給する第2の処理ガス供給管70と、処理容器10の側面であって、第2の処理ガス供給管70の上方に設けられ、処理容器10の内部に下方に向かう整流ガスRを供給する整流ガス供給管80と、処理容器10の内部にマイクロ波を放射するラジアルラインスロットアンテナ40と、を有する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理ガスをプラズマ化させて被処理体を処理するプラズマ処理装置であって、 被処理体を収容する処理容器と、 前記処理容器の底面に設けられ、被処理体を載置する載置部と、 前記処理容器の天井面中央部に設けられ、当該処理容器の内部に処理ガスを供給する第1の処理ガス供給部と、 前記処理容器の側面に設けられ、当該処理容器の内部に処理ガスを供給する第2の処理ガス供給部と、 前記第1の処理ガス供給部の外方且つ前記第2の処理ガス供給部の上方に設けられ、前記処理容器の内部に下方に向かう整流ガスを供給する整流ガス供給部と、 前記第1の処理ガス供給部と前記第2の処理ガス供給部のそれぞれから供給される処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成部と、を有することを特徴とする、プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/318 ,  C23C 16/455 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L21/31 C ,  H01L21/318 B ,  C23C16/455 ,  H05H1/46 B
Fターム (29件)：
4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030JA03 ,  4K030JA05 ,  4K030KA26 ,  4K030LA15 ,  5F045AA09 ,  5F045AB33 ,  5F045AC07 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EF01 ,  5F045EF09 ,  5F058BA06 ,  5F058BC08 ,  5F058BD10 ,  5F058BF08 ,  5F058BF27 ,  5F058BF30 ,  5F058BF37
引用特許：
審査官引用 (5件)
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