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J-GLOBAL ID：201602000645688055   整理番号：64A0178035

真空蒸着Ni-Cr薄膜の構造

The structure of vacuum condensed NiCr films.
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著者 (4件)：
BICKNELL R

BICKNELL R について

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BLACKBURN H

BLACKBURN H について

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CAMPBELL D S

CAMPBELL D S について

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STIIILAND D J

STIIILAND D J について


資料名：
Microelectron Reliab  (Electronics Reliability & Microminiaturization)

Microelectron Reliab について


巻： 3  号： 1  ページ： 61-64  発行年： 1964年 
JST資料番号： C0530A  ISSN： 0026-2714  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR) 
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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真空蒸着した40-60Ni-Cr薄膜を電子線回折と電子顕微鏡で観察。焼鈍温度を700°Cまで変化させた場合の,構造および外観の変化と焼鈍温度との関係をのべた。またこの観察結果と蒸着膜の電気抵抗の安定性との関係を論じた;写5図2参8
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真空蒸着

真空蒸着 について

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薄膜

薄膜 について


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