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J-GLOBAL ID：201602005730476093   整理番号：71A0031091

高周波体放電プラズマ中で得られた二酸化けい素薄膜の構造

О структуре пленок двуокиси кремния, полученных в высокочастотной плазме газового разряда.

著者 (3件)： ПАВЛОВ П В ,  ЗОРИН Е И ,  ШИТОВА Э В
資料名： Kristallografiya  (Kristallografiya)
巻： 15  号： 4  ページ： 859-860  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0058A  ISSN： 0023-4761  CODEN： KRISA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： 800--1000AのSiO、Pt膜を高周波気体放電プラズマ中でNaC1の新鮮なへき開面上に蒸着した。材料としてテトラメトキシシランを使ったが,これは電子線回折図によると非晶質構造をもっている。薄膜にアルゴンイオンを照射し,500と550°Cで3e分間焼なまし後では構造の著しい変化(多結晶化)が認められた;写図1表1参4

シソーラス用語： 結晶化 ,  高周波放電 ,  焼なまし ,  電子回折 ,  二酸化けい素 ,  薄膜 ,  無定形
準シソーラス用語： SiO₂ ,  放電プラズマ

タイトルに関連する用語 (3件)： 高周波 ,  放電プラズマ ,  けい素薄膜