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J-GLOBAL ID：201602011981687042   整理番号：72A0204299

誘電体と金属の薄膜の沈着のためのイオンビームと高周波放電の利用

Использование хонных пучков и высокочастотного разряда для осаждения пленок диэлектриков и металпов.

著者 (3件)： ОСИПОВ К А ,  ФОЛМАНИС Г Э ,  ЛОЗИНСКИЙ Ю Н
資料名： Izv Akad Nauk SSSR Neorg  (Izvestiya Akademii Nauk SSSR. Neorganicheskie Materialy)
巻： 7  号： 6  ページ： 1051-1052  発行年： 1971年 
JST資料番号： R0254A  CODEN： IVNMA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： AlaOTioSnなどの誘電体または金属の薄膜をイオンビーム法または高周波放電法によって構造する場合の,製造条件について報告;写図1参3

シソーラス用語： アルミナ ,  イオンビーム ,  すず ,  高周波放電 ,  酸化チタン ,  薄膜 ,  誘電体

タイトルに関連する用語 (5件)： 誘電体 ,  薄膜 ,  沈着 ,  イオンビーム ,  高周波放電