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J-GLOBAL ID：201602019898486176   整理番号：71A0279331

金属の高純度精製と化合物の格子欠陥制御

著者 (1件)： 井垣謙三
資料名： 日本金属学会会報  (Bulletin of the Japan Institute of Metals)
巻： 10  号： 8  ページ： 493-508  発行年： 1971年 
JST資料番号： F0163A  ISSN： 0021-4426  CODEN： NKZKAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高純度に精錬した鉄を製造するため電解鉄,再電解鉄およびJohnson-Matthey社製純鉄を素材とし,浮遊帯精製を行ったのち,真空焼なまし,乾水素処理および湿水素処理(各800°Cで実施)を施こした。純度判定の尺度として残留抵抗比RRRを用いて評価したところJohnson-Matthey社のものはRRR465を示し,これまでに報告された最高純度のものとなった。2種類以上の原子からなる化合物では化学量論組成からの偏差が生じやすい。PbSeは1:1の原子比より過剰のPbまたはSeを固溶させn形またはp形の半導体にすることができる。この成分制御範囲はせまい;写図36表2

シソーラス用語： セレン ,  ゾーン融解 ,  鉛 ,  格子欠陥 ,  金属 ,  高純度金属 ,  焼なまし ,  水素 ,  精錬 ,  鉄 ,  半導体
準シソーラス用語： 化合物

引用文献 (30件)：

• (1) L. Berger and A. R. de Vroomen: J. Appl. Phys., 36 (1965), 2777.
• (2) E. E. Semenenko and A. I. Sudovtsov: Sov. Phys. JETP, 20 (1965), 323.
• (3) G. R. Taylor, A. Isin and R. V. Coleman: Phys. Rev., 165 (1968), 621.
• (4) S. Arajs, B. F. Oliver and J. T. Michalack: J. Appl. Phys., 38 (1967), 1676.
• (5) A. I. Schindler and B. C. La Roy: J. Appl. Phys., 37 (1966), 3610.

タイトルに関連する用語 (3件)： 高純度 ,  精製 ,  格子欠陥