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J-GLOBAL ID：201602201914352510   整理番号：16A0193956

MVM-SEMシステムに基づくリソグラフィシミュレーションの能力

The capability of Lithography simulation based on MVM-SEM system

著者 (14件)： YOSHIKAWA Shingo (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  FUJII Nobuaki (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  KANNO Koichi (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  IMAI Hidemichi (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  HAYANO Katsuya (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  MIYASHITA Hiroyuki (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN) ,  SHIDA Soichi (ADVANTEST CORP., JPN) ,  MURAKAWA Tsutomu (ADVANTEST CORP., JPN) ,  KURIBARA Masayuki (ADVANTEST CORP., JPN) ,  MATSUMOTO Jun (ADVANTEST CORP., JPN) ,  NAKAMURA Takayuki (ADVANTEST CORP., JPN) ,  MATSUSHITA Shohei (D2S, KK., JPN) ,  HARA Daisuke (D2S, KK., JPN) ,  PANG Linyong (D2S, Inc., USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9635  ページ： 96351X.1-96351X.9  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代リソグラフィーでは,複雑なフォトマスクパターンが利用されている。1Xnm技術ノードでは,SMO-ILT,NTDなどが利用される。このために,フォトマスク欠陥検査がより複雑になっている。欠陥検証には,空間像シミュレータや印刷適性シミュレーションなどが利用されるが,非常に多くの検証が必要になる。本論文では,MVM-SEMシステムを開発し,リソグラフィシミュレーション法の利用について検討した。シミュレーション法での欠陥検証の性能,アーキテクチャとソフトウェアなどを説明した。シミュレーションツールと組み合わせたシステムで,複雑なパターンでも欠陥を検証できた。マルチビジョン計測システムに基づく三次元リソグラフィシミュレーションでは,フォトマスクを二次元と三次元で検証できることが分かった。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  シミュレーション ,  走査電子顕微鏡 ,  画像 ,  画像分析 ,  パターン形成 ,  加工欠陥 ,  シミュレータ ,  印刷適性 ,  計算機アーキテクチャ ,  ソフトウェア ,  計測システム ,  コンピュータビジョン ,  三次元 ,  半導体プロセス ,  微細加工
準シソーラス用語： フォトマスク欠陥 ,  空間像

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： SEM ,  リソグラフィシミュレーション ,  能力