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J-GLOBAL ID:201602205176378741   整理番号:16A0168768

誘導結合Ar/O-2プラズマの流体シミュレーション:実験との比較【Powered by NICT】

Fluid simulation of inductively coupled Ar/O_2 plasmas:Comparisons with experiment
著者 (4件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 095203-1-095203-8  発行年: 2015年 
JST資料番号: W1539A  ISSN: 1674-1056  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,二次元流体モデルはAr/O_2高周波(RF)誘導結合プラズマ放電の特性を研究するために採用した。本研究の重点はプラズマ特性に及ぼす外部パラメータ(すなわち,RF電力,圧力,及びAr/O_2ガス比)の影響においた。数値結果は,RF電力は,プラズマ密度の振幅よりもむしろ空間分布に大きな影響を持つことを示した。しかし,圧力とAr/O_2ガス比は,プラズマ密度の振幅だけでなく空間的一様性に影響を与える。最後に,シミュレーション結果と実験データ間の比較を種々の気体圧力及び酸素含有量で行われ,良好な一致が達成された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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半導体薄膜 
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