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J-GLOBAL ID：201602206882551894   整理番号：15A1350986

吸着剤グラフトした没食子酸による水からの痕跡量ほう素の除去の機構【Powered by NICT】

Mechanism for the Removal of Trace Amount of Boron from Water by Adsorbent Grafted Gallic Acid

著者 (5件)： Shao Chaoying (Coll. of Chemistry,Chemical Engineering and Biotechnology,Donghua Univ., Shanghai) ,  Hu Jingjing (Coll. of Chemistry,Chemical Engineering and Biotechnology,Donghua Univ., Shanghai) ,  Miyazaki Yoshinobu (Dep. of Chemistry,Fukuoka Univ. of Education, Japan, Fukuoka) ,  Takehara Ko (Fac. of Sciences,Kyushu Univ., Japan, Fukuoka) ,  Yoshimura Kazuhisa (Fac. of Sciences,Kyushu Univ., Japan, Fukuoka)
資料名： Donghua Daxue Xuebao. Zirankexueban  (Donghua Daxue Xuebao. Zirankexueban)
巻： 41  号： 1  ページ： 65-71  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2603A  ISSN： 1671-0444  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 水溶液中における没食子酸とホウ酸の複合作用が~(11)B NMR測定により徹底的に検討した。ホウ酸は没食子酸と反応して1:1と1:2の化学量論を有する二複合体を形成することを確認した。1:2錯体は主に中性溶液中で分布していたが,1:1錯体はより高いpH範囲で優勢であった。これら錯体の生成定数はlogβ_1=3.79とlogβ_2=4.10であると評価した。新規ホウ素選択性吸着剤グラフト化没食子酸はイオン交換法を用いて調製した。浴実験は,水からのホウ素除去のための吸着剤の性能を評価するために実施し,除去効率に及ぼすほう素溶液,接触時間および浴温度のpH値と濃度の影響を調べた。吸着研究の結果は,吸着プロセスがLangmuir方程式,Freundlich方程式,擬二次速度方程式で良く記述できることを示した。吸着剤吸着没食子酸に及ぼすほう素吸着は単分子層との自発的化学プロセスであり,その吸着容量は約0.39mmol/gであると推定された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： pH【水素イオン指数】 ,  錯体 ,  *ホウ素 ,  *吸着 ,  水溶液 ,  化学プロセス ,  *吸着剤 ,  生成定数 ,  ホウ酸 ,  *移植片 ,  レート方程式 ,  芳香族カルボン酸 ,  多価フェノール ,  ヒドロキシ酸
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  Langmuir吸着等温式 ,  除去効率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： CAD,CAM  (JE10000A)

物質索引 (1件)： 没食子酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 吸着剤 ,  グラフト ,  没食子酸 ,  水 ,  痕跡 ,  ほう素