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J-GLOBAL ID：201602208285301641   整理番号：16A0426972

加飾技術の最新動向 樹脂の環境調和型ダイレクトめっき技術〈樹脂・金属間のナノスケール接合と電気化学的配線形成プロセス〉

著者 (3件)： 鶴岡孝章 (甲南大) ,  高嶋洋平 (甲南大) ,  赤松謙祐 (甲南大)
資料名： プラスチックス  (Japan Plastics)
巻： 67  号： 5  ページ： 25-28  発行年： 2016年05月10日 
JST資料番号： F0254A  ISSN： 0555-7887  CODEN： PRSKAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,電子機器の小型化・高機能化に対応可能な新しいめっき技術の確立が重要となっている。本稿では,次世代のサブミクロンスケールの配線形成に適用可能な金属薄膜形成プロセスである環境調和型ダイレクトめっき技術の概要について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： 超小形回路技術 ,  ポリアミド酸 ,  アルカリ処理 ,  表面改質 ,  *リソグラフィー ,  *銀めっき ,  ポリイミド ,  金属薄膜 ,  ナノ構造
準シソーラス用語： 電気化学リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 加飾 ,  最新動向 ,  環境調和型 ,  めっき技術 ,  ナノスケール ,  電気化学 ,  形成プロセス