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J-GLOBAL ID：201602211991877384   整理番号：16A0715150

X線自由電子レーザーを用いたポンプ・プローブXAFSによるWO₃光触媒励起過程の研究

著者 (13件)： 城戸大貴 (北大 大学院) ,  上村洋平 (岡崎国立共同研究機構 分子科研) ,  脇坂祐輝 (北大 触研) ,  丹羽尉博 (高エネルギー加速器研究機構) ,  野澤俊介 (高エネルギー加速器研究機構) ,  足立伸一 (高エネルギー加速器研究機構) ,  片山哲夫 (JASRI) ,  矢橋牧名 (理研) ,  有賀寛子 (北大 触研) ,  高草木達 (北大 触研) ,  横山利彦 (岡崎国立共同研究機構 分子科研) ,  大谷文章 (北大 触研) ,  朝倉清高 (北大 触研)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 96th  ページ： ROMBUNNO.2B1-07  発行年： 2016年03月10日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 酸化物光触媒の励起状態における中心金属周辺の電子状態や幾何構造を知る目的で,W L3吸収端XAFSのポンプ・プローブ測定を行ってきた。これまで,放射光を用いることで100psオーダの電子状態変化を明らかにできた。今回新たに,X線自由電子レーザーを用いることで,500fsの時間分解XAFSを測定できた。その結果Wは,光励起に伴い2段階で電子状態と構造を変化し,準安定状態に達して,基底状態へ緩和することを見いだした。(著者抄録)

シソーラス用語： *X線自由電子レーザ ,  *ポンププローブ法 ,  *XAFS ,  *酸化タングステン ,  *光触媒 ,  *励起状態 ,  X線吸収端 ,  フェムト秒 ,  時間分解分光法 ,  電子状態 ,  構造 ,  準安定状態 ,  基底状態 ,  緩和現象 ,  光化学系 ,  酸化還元電位
準シソーラス用語： 二段階光励起 ,  Z-スキーム

分類 (4件)： その他の構造決定法  (BK01070L) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  分子と光子の相互作用  (BH06120R)

タイトルに関連する用語 (7件)： X線自由電子レーザー ,  プローブ ,  XAFS ,  光触媒 ,  励起 ,  過程 ,  研究