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J-GLOBAL ID：201602212183403251   整理番号：16A0131261

スピンエッチング法のエッチング特性に関する実験的研究

Experimental Study on Etching Characteristics of a Spin-Etching Method

著者 (1件)： KIM Yongdae (Agency for Defense Dev., Daejeon, KOR)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 24  号： 6  ページ： 1827-1831  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ウエハを200μm以下に薄くするにはウエットエッチングが使われ,その中でもスピンエッチングがエッチレートと均一性で優れている。本稿は弗酸,硝酸,酢酸の混合(HNA溶液)を使ったウエハシンニングを提案する。スピンエッチ装置ではHNA溶液が満たされたテフロン浴の中でウエハが回転する。HNAスピンエッチのエッチレートは混合比,質量移動,熱移動で決定される。回転版上の流れのReynolds数が1.8×10⁵以下だと流れは層流であり,境界層厚と対流熱移動係数は回転速度が同じならば半径で変わらない。本研究ではウエハの回転を60rpm以下にして層流にしたが,局部的エッチレートが半径位置で変化した。この現象は境界層の遠心力によて生じる移流によるものである。ウエハが回転すると,遠心力で密度の高い流体は外側に,低密度のものは軸近くにとどまり,流体位置の再配置が局部的エッチレートを決定する。

シソーラス用語： *エッチング ,  ケイ素 ,  研削 ,  研磨 ,  *ウエハ【IC】 ,  硝酸 ,  Reynolds数 ,  層流 ,  移流 ,  遠心力 ,  脂肪酸 ,  薬物
準シソーラス用語： シリコン ,  *シンニング ,  フッ酸

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： 酢酸

タイトルに関連する用語 (4件)： スピン ,  エッチング ,  エッチング特性 ,  実験的研究