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J-GLOBAL ID：201602212376661835   整理番号：16A0193951

統合計測法によるロット内オーバレイ変化の低減と総合的な制御戦略

Reduction of in-lot overlay variation with integrated metrology, and a holistic control strategy

著者 (16件)： LEE Hong-Goo (SK hynix, KOR) ,  HAN Sang-Jun (SK hynix, KOR) ,  MA Won-Kwang (SK hynix, KOR) ,  KIM Young-Sik (SK hynix, KOR) ,  KWAK Noh-Jung (SK hynix, KOR) ,  BOECKER Paul (ASML, NLD) ,  DECKERS David (ASML, NLD) ,  KOU Weitian (ASML, NLD) ,  KUPERS Michiel (ASML, NLD) ,  RYAN Kevin (ASML, NLD) ,  MCNAMARA Elliott (ASML, KOR) ,  KIM Gwang-Gon (ASML, KOR) ,  SUN Kyu-Tae (ASML, KOR) ,  LIM Young-Wan (ASML, KOR) ,  BYUN Jin-Moo (ASML, KOR) ,  SUH Jung-Joon (ASML, KOR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9635  ページ： 96351S.1-96351S.7  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液浸リソグラフィ法でDRAMが大量生産されている。大量生産では,オーバレイの制御や計測が重要となる。オーバレイの計測法として,回折ベースの計測法が注目される。本論文では,ロット内オーバレイ変化を低減するために,計測法や制御法について検討した。計測法では,光回折を利用した光学的計測法を利用した。この動作原理を示し,特性を解析した。次に,制御法では,フィードバックに基づくプロセス補正法を利用した。同一ロットのウエハに同じプロセス補正法を適用した。ロット内ウエハをサンプリングし,様々な処理でも調整できるようにした。これらの計測法や制御法では,性能が改善され,サイクルタイムが低減した。大量生産用の最適な方法を提案した。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  開口数 ,  露光 ,  ロット ,  *位置決め ,  制御 ,  計測 ,  DRAM ,  大量生産 ,  制御方式 ,  光回折 ,  フィードバック ,  標本抽出 ,  時間 ,  サイクル
準シソーラス用語： サイクルタイム ,  位置決め制御 ,  *液浸リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 統合 ,  計測法 ,  ロット ,  オーバレイ ,  総合 ,  制御戦略