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J-GLOBAL ID：201602213405072000   整理番号：16A0052050

Sn(acac)₂及びフッ化水素による逐次自己制御熱反応を用いるAlF₃の原子層エッチング

Atomic Layer Etching of AlF₃ Using Sequential, Self-Limiting Thermal Reactions with Sn(acac)₂ and Hydrogen Fluoride

著者 (3件)： LEE Younghee (Univ. Colorado at Boulder, Colorado, USA) ,  DUMONT Jaime W. (Univ. Colorado at Boulder, Colorado, USA) ,  GEORGE Steven M. (Univ. Colorado at Boulder, Colorado, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 119  号： 45  ページ： 25385-25393  発行年： 2015年11月12日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応物としてのSn(acac)₂とフッ化水素との逐次熱反応を初めて用いて,金属フッ化物の熱的原子層エッチングを行った。in situ水晶結晶微量天秤とFourier変換赤外分光法による測定により,150~250°CでAlF₃原子層エッチングを調べた。Sn(acac)₂がAlF₃からのフッ素を受けとり揮発性SnF(acac)反応生成物を生成し,acacをAlF₃に与えAlF(acac)のような揮発性生成物も生じた。更にSn(acac)₂曝露によりAlF₃表面上にacac含有化学種が生成した。これがSn(acac)₂エッチング反応を制限する。HF反応物は若干のacac含有化学種を除去し次のSn(acac)₂曝露時に更なるエッチングを進行させる。AlF₃の原子層エッチングの反応機構を提示した。

シソーラス用語： *スズ錯体 ,  *ジケトン ,  *脂肪族ケトン ,  *フッ化水素 ,  *抑制 ,  *熱化学反応 ,  *逐次反応 ,  *フッ化アルミニウム ,  *層 ,  *エッチング ,  試験 ,  実験 ,  微量天秤 ,  赤外吸収スペクトル ,  揮発性 ,  反応生成物 ,  反応機構
準シソーラス用語： *自己制御 ,  *熱反応 ,  *原子層 ,  in situ実験 ,  水晶結晶微量天秤 ,  FTIRスペクトル

分類 (3件)： 非遷移金属元素の錯体  (CE01030C) ,  酸  (CD01020O) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

物質索引 (1件)： acac

タイトルに関連する用語 (8件)： Sn ,  acac ,  フッ化水素 ,  逐次 ,  自己制御 ,  熱反応 ,  AlF3 ,  原子層エッチング