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J-GLOBAL ID：201602215706498110   整理番号：16A0193942

フラットパネルディスプレイ用の減衰位相シフトマスク(PSM)ブランク

Attenuated phase-shift mask (PSM) blanks for flat panel display

著者 (4件)： KAGEYAMA Kagehiro (ULVAC Coating Corp., Saitama, JPN) ,  MOCHIZUKI Satoru (ULVAC Coating Corp., Saitama, JPN) ,  YAMAKAWA Hiroyuki (ULVAC Coating Corp., Saitama, JPN) ,  UCHIDA Shigeru (ULVAC Coating Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9635  ページ： 96351I.1-96351I.4  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スマートフォン,タブレットPCなどの携帯機器では,高精細なフラットパネルディスプレイが利用される。フラットパネルディスプレイの製造には,微細パターン露光技術が必要である。本論文では,フラットパネルディスプレイ用のPSMブランクの製造方法について検討した。ハイエンドパターン形成用途のArFやKrFフォトリソグラフィー技術で使用されているPSMブランクを利用した。CrO_xに基づく大型PSMブランクを開発した。均一性や光学品質などの光学特性を調べた。PSMブランクの均一性,安定性,基本光学特性を示した。このブランクは,優れた光学特性を有し,FPDに利用できることが分かった。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  フォトリソグラフィー ,  ハーフトーン画像 ,  位相シフト ,  超解像 ,  半導体プロセス ,  *フラットパネルディスプレイ ,  スマートフォン ,  タブレット ,  端末装置 ,  携帯型 ,  映像モニタ ,  表示装置 ,  露光 ,  パターン形成 ,  エキシマレーザ ,  酸化クロム ,  均一性 ,  品質 ,  光学的性質 ,  安定性
準シソーラス用語： ArFレーザ ,  KrFレーザ ,  マスクブランク ,  携帯機器 ,  *減衰位相シフトマスク ,  光学品質 ,  高精細モニタ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： フラットパネルディスプレイ ,  減衰位相シフトマスク ,  PSM ,  ブランク