文献

J-GLOBAL ID：201602216738726952   整理番号：16A0284129

水素ラジカルによるレジスト除去における除去速度の酸素添加量依存性

著者 (6件)： 山本雅史 (香川高専) ,  梅本宏信 (静大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  鹿間共一 (香川高専) ,  西山聖 (大阪市大) ,  堀邊英夫 (大阪市大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.22A-W611-9  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ラジカル ,  *水素 ,  *レジスト ,  剥離 ,  除去 ,  速度 ,  酸素化 ,  依存性 ,  半導体プロセス ,  最適化 ,  *リソグラフィー ,  酸素 ,  処理速度 ,  水素ラジカル ,  添加量依存性 ,  改変
準シソーラス用語： 酸素添加 ,  除去速度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水素ラジカル ,  レジスト ,  除去速度 ,  酸素 ,  添加量依存性