文献

J-GLOBAL ID：201602216902799168   整理番号：16A0193918

ナノインプリントリソグラフィーマスク上の部分的フッ素成端被覆の光学シミュレーション

Optical Simulations for Fractional Fluorine Terminated Coatings on Nanoimprint Lithography Masks

著者 (3件)： SEIDEL Thomas E. (Seitek50, FL) ,  GOLDBERG Alexander (Schroedinger, Inc., CA) ,  HALLS Mathew D. (Schroedinger, Inc., CA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9635  ページ： 96350S.1-96350S.17  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリントリソグラフィーで利用されるマスクは,石英ガラスが用いられ,屈折率の異なる超薄膜の被覆を有している。この被覆を備えたマスクでは,光強度の空間分布の解析が困難になる。これを解決するために,マスクの微細構造内の光強度の計算機シミュレーション法について検討した。ナノインプリントリソグラフィーの歩留りを向上させるために,部分的にフッ素成端させた被覆を利用した。アスペクト比,特徴サイズ,波長などを変えて,マスクでの光強度を解析した。フッ素成端被覆で屈折率が大きくなった。また,波長を365nmから193nmまで変えても,光解離が起こらず安定であった。フッ素成端被覆を利用することで,屈折率が増大し,非被覆マスクと比較して光強度が大きくなることが分かった。光学シミュレーション法は,超薄膜の被覆を備えたマスクでも有効である。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  回路パターン形成 ,  極端紫外線 ,  *リソグラフィー ,  *フッ素 ,  成端 ,  *被覆 ,  石英ガラス ,  屈折率 ,  超薄膜 ,  放射強度 ,  空間分布 ,  計算機シミュレーション ,  微細構造 ,  歩留り ,  アスペクト比 ,  単分子層 ,  光解離 ,  安定性 ,  波長依存性
準シソーラス用語： EUVマスク ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  光安定性 ,  *光学シミュレーション ,  光強度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： フッ素 ,  成端 ,  光学シミュレーション