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J-GLOBAL ID:201602217453583968   整理番号:16A0005365

熱電応用のためのシリサイド/シリコンのヘテロ接合構造

Silicide/Silicon Hetero-Junction Structure for Thermoelectric Applications
著者 (8件):
資料名:
巻: 15  号: 10  ページ: 7472-7475  発行年: 2015年10月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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シリサイド/シリコンヘテロ接合構造の熱電デバイスをCMOSプロセスによって作製した。電気伝導率,Seebeck係数,パワーファクタと温度差を定常状態解析法を用いて評価した。エルビウムシリサイド/シリコンヘテロ接合と白金シリサイド/シリコンヘテロ構造を,それぞれn-レッグとp-レッグエレメントとして作製した。白金シリサイド/シリコン多層構造によりSeebeck係数とパワーファクタが増大した。Seebeck係数はエルビウムシリサイド/シリコン構造によっても増大した。
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分類 (2件):
分類
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熱電デバイス  ,  13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 
タイトルに関連する用語 (4件):
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