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J-GLOBAL ID：201602218191848724   整理番号：16A0226919

フェムト秒レーザと位相マスクを用いたワイドバンドギャップ半導体表面上での格子構造の加工

Processing grating structures on surfaces of wide-bandgap semiconductors using femtosecond laser and phase mask

著者 (6件)： GAO Bo (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  CHEN Tao (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  CUI Wei (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  LI Cunxia (Xi’an Univ. Technol., Xi’an, CHN) ,  SI Jinhai (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  HOU Xun (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN)
資料名： Optical Engineering  (Optical Engineering)
巻： 54  号： 12  ページ： 126106.1-126106.4  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： B0577B  ISSN： 0091-3286  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *レーザ加工 ,  *格子構造 ,  表面 ,  バンドギャップ ,  マスク ,  位相 ,  *フェムト秒レーザ ,  パルスレーザ照射 ,  炭化ケイ素 ,  窒化ガリウム ,  干渉縞 ,  パターン形成 ,  石英ガラス ,  光吸収 ,  非線形光学
準シソーラス用語： *位相マスク ,  半導体表面 ,  非線形吸収

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： フェムト秒レーザ ,  位相マスク ,  ワイドバンドギャップ ,  半導体表面 ,  格子構造