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J-GLOBAL ID：201602218868036209   整理番号：16A0284128

大気圧低温プラズマを用いたレジストの除去

著者 (6件)： 高井智基 (香川高専) ,  山本雅史 (香川高専) ,  鹿間共一 (香川高専) ,  長岡史郎 (香川高専) ,  西山聖 (大阪市大) ,  堀邊英夫 (大阪市大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.22A-W611-8  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 圧力 ,  プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  *ドライエッチング ,  レジスト ,  *リソグラフィー ,  パターン形成 ,  最適化 ,  除去 ,  *半導体プロセス ,  常圧 ,  低温プラズマ ,  改変
準シソーラス用語： アッシング ,  プラズマ照射 ,  大気圧

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 大気圧低温プラズマ ,  レジスト