大面積/低温分布アンテナアレイマイクロ波プラズマ反応容器中で蒸着されたナノ結晶ダイヤモンド薄膜のマイクロ構造及び成長動力学

BAUDRILLART Benoit; BENEDIC Fabien; BRINZA Ovidiu; BIEBER Thomas; CHAUVEAU Thierry; ACHARD Jocelyn; GICQUEL Alix

文献

J-GLOBAL ID：201602219134948115 整理番号：16A0096418

大面積/低温分布アンテナアレイマイクロ波プラズマ反応容器中で蒸着されたナノ結晶ダイヤモンド薄膜のマイクロ構造及び成長動力学

Microstructure and growth kinetics of nanocrystalline diamond films deposited in large area/low temperature distributed antenna array microwave-plasma reactor

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資料名：
巻： 212 号： 11 ページ： 2611-2615 発行年： 2015年11月
JST資料番号： D0774A ISSN： 1862-6300 CODEN： PSSABA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

この論文において,2Dマトリックスに配置された16のマイクロ波プラズマ源を用いて,低ガス圧,典型的には0.45mbar以下,基板温度400°CでH₂/CH₄/CO₂ガス混合物を使い4inダイヤモンド薄膜の成長が可能な新しい分布アンテナアレイPECVDシステムを研究する。基本マイクロ波源に対する基板位置の影響が,この低温/大面積蒸着方式のダイヤモンド成長プロセスを向上させるために,3組のガス圧について調べられる。その結果は,ナノ結晶ダイヤモンド薄膜が,成長条件に応じて粒径50-200nmの多結晶球形集合体に形成され,粒径10-20nm近くのダイヤモンド粒から構成されることを示している。圧力0.45mbar及び基板とマイクロ波源の間の距離65mmに対応する最適蒸着条件が発見される。これらの条件において,良好なナノ結晶特性,すなわち,最小粒径(10nm)及び最低粗さ(約15nm)で最高成長速度(60nmh^-1)が得られる。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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炭素とその化合物 , 半導体薄膜

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