文献
J-GLOBAL ID:201602224688651553   整理番号:16A0571243

自己洗浄性を有するパターン化されたシリコンウェハからインプリントされたポリジメチルシロキサンの微細構造化表面の製作

Fabrication of a poly(dimethylsiloxane) microstructured surface imprinted from patterned silicon wafer with a self-cleaning property
著者 (8件):
資料名:
巻: 48  号:ページ: 835-838  発行年: 2016年07月 
JST資料番号: F0612A  ISSN: 0032-3896  CODEN: POLJB8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ポリジメチルシロキサン(PDMS)は,その熱安定性,光透過性,機械的強度および生体適合性のために,自動車,化粧品および他の産業などの多くの分野で使用されている。しかし,1つの欠点は,その表面から汚れを除去することが難しいことである。多孔質シリコンウェハをテンプレートとして利用してPDMSシート上にマイクロパターンを作製した。調製したマイクロロッドPDMS表面は,高い水接触角および油接触角を示した。その機構を議論するため,WenzelモデルおよびCassie-Baxterモデルを用いて理論接触角を計算し,測定値と比較した。さらに,マイクロロッドPDMS表面は自己洗浄性を有することを確認した。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体の構造と形態学  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  有機けい素化合物 
引用文献 (20件):
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る